去光阻液(Stripper)

產品介紹

清除目標	產品名稱	特性
聚醯亞胺薄膜	PIS-509	對聚醯亞胺薄膜極佳的清除效果
聚醯亞胺薄膜(重工)	PIS-523	對頑固的老化聚酰亞胺薄膜具良好去除效果
正&負光阻	PRS-124	適用於橡膠材料
正&負光阻	PRS-278	適用於砷化鎵材料
正&負光阻	PRS-530
正&負光阻	PRS-615	對於銀、鋁、銅具選擇性且兼具高度溶解能力
正&負光阻	PRS-627	對於銀、鋁、銅具選擇性且兼具高度溶解能力
正&負光阻	PRS-628	對於銀、鋁、銅具選擇性且兼具高度溶解能力
正&負光阻	PRS-809	高度溶解能力
正&負光阻	PRS-816	對於銀、鋁、銅具選擇性且兼具高度溶解能力
正&負光阻	PRS-938	對於銀、鋁、銅具選擇性
正光阻	PRS-148B	適用於聚氯乙烯包材
正光阻	PRS-568	對大多數金屬具選擇性
負光阻	PRS-219	可清除完全固化的SC-450 光阻
乾膜	PRS-581	可用於去除乾膜及濕膜去除 (Asahi and Hitachi)
負光阻	PRS-903	高度溶解能力
負光阻	PRS-606	高度溶解能力
乾膜	PRS-240	優秀的溶劑和成本效益
乾膜	PRS-262	對於銀具選擇性且兼具高度溶解能力
乾膜 &聚醯亞胺	PIS-723I	對聚醯亞胺薄膜極佳的清除效果及對金屬具有選擇性
乾膜 &聚醯亞胺	PIS-790V	對銅具良好的選擇性及高度溶解能力
乾膜 &聚醯亞胺	PIS-890V	PIS-790V的高沸點版本
乾蝕刻後的光阻殘留	PRS-018	可去除乾蝕刻後的光阻殘留
乾蝕刻後的光阻殘留	PRS-270	可去除乾蝕刻後的光阻殘留
乾蝕刻後的光阻殘留	PRS-389	可去除乾蝕刻後的光阻殘留及適用於砷化鎵材料
乾蝕刻後的光阻殘留	PRS-777	可去除乾蝕刻後的光阻殘留及適用於砷化鎵材料